2026-06-18
氮化镓功率器件迈向垂直架构新阶段
氮化镓(GaN)在高压功率应用中理论性能优越,但受限于衬底材料质量,商业化进展缓慢。高压应用需要垂直器件设计,而这依赖高质量GaN同质衬底或工程衬底。近年来,GaN外延生长技术取得进展,QST等工程衬底显著改善了材料质量...
氮化镓(GaN)在高压功率应用中理论性能优越,但受限于衬底材料质量,商业化进展缓慢。高压应用需要垂直器件设计,而这依赖高质量GaN同质衬底或工程衬底。近年来,GaN外延生长技术取得进展,QST等工程衬底显著改善了材料质量...
半导体材料与技术授权公司Atomera宣布,其关于氮化镓硅基(GaN-on-Si)技术的概念书已获批进入PowerAmerica研究所主导提案(IIP)阶段,旨在推动宽禁带功率半导体技术发展。该提案提出与行业及科研伙伴合...