英特尔率先采用阿斯麦高NA EUV技术量产芯片

英特尔已开始使用ASML最新一代TwinScan EXE系列光刻机生产处理器，该系列采用高数值孔径EUV架构，NA值比前代提升51%，可实现8纳米硅图案蚀刻精度。英特尔将其用于Intel 18A制程部分层次的生产，并已用...