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英特尔率先采用阿斯麦高NA EUV技术量产芯片
英特尔已开始使用ASML最新一代TwinScan EXE系列光刻机生产处理器，该系列采用高数值孔径EUV架构，NA值比前代提升51%，可实现8纳米硅图案蚀刻精度。英特尔将其用于Intel 18A制程部分层次的生产，并已用于量产Core Ultra系列3笔记本处理器。ASML同步公布二季度业绩，营收93亿欧元超预期，全年营收指引上调至430亿至450亿欧元，并计划未来两年将部分产线产能提升30%。
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