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光掩模技术面临新挑战：瓶颈、曲线图形与数据难题
光罩检测和修复仍是关键瓶颈，尽管多束写入技术已缓解写入限制。曲线光罩在关键层逐渐可行，但鉴定、计量和检测标准仍滞后于生产需求。扩展曲线光罩需要原生数据流、基于模型的检查、GPU/HPC计算，并减少对传统分割流程的依赖。业界正通过标准化和可扩展计算应对数据量增长，曲线光罩已在制造中得到验证，但仍需解决鉴定标准不统一和计量方法等问题。
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