曲线掩模突破光刻检测与量测的极限

随着曲线掩模逐渐成为主流，整个芯片制造生态系统面临重大挑战。从设计到掩模数据准备、写入、检测和计量，全流程需实现曲线原生化。当前检测重心正从"发现所有缺陷"转向"识别影响晶圆良率的关键缺陷"。高数值孔径EUV的引入将进一...