光罩成本经济学如何影响高数值孔径EUV技术的普及

掩模成本虽未阻止先进制程的推进，但正日益影响设计、节点与工艺选择。高数值孔径EUV将对CD精度、EPE、局部CDU、掩模3D建模、拼接及材料提出更严格要求。焦深的缩减将推动光刻胶、刻蚀、薄膜和吸收体技术的革新。来自D2S...